350 nm

Il 350 nm (350 nanometri o 0,35 µm) evoluzione del precedente processo a 600 nm è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI).

Questo processo fu introdotto negli anni 1995-1996 dalle principali industrie di semiconduttori come Intel e IBM.

Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 250 nanometri.

Processori realizzati con il processo 350 nm[modifica | modifica wikitesto]

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V · D · M Processi costruttivi per circuiti integrati (VLSI)
Linea temporale
10 µm · 3 µm · 1.5 µm · 1 µm · 800 nm · 600 nm · 350 nm · 250 nm · 180 nm · 130 nm · 90 nm · 65 nm · 45 nm · 32 nm · 22 nm · 14 nm · 10 nm · 7 nm · 5 nm Unità di misura: micrometro · nanometro