Grand Gateway Shanghai
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| Grand Gateway Shanghai | |
|---|---|
 | |
| Localizzazione | |
| Stato |  Cina
|
| Coordinate | 31°11′47.4″N 121°25′57″E / 31.1965°N 121.4325°E |
| Informazioni generali | |
| Condizioni | In uso |
| Uso | misto |
| Piani | 52 |
| Realizzazione | |
| Architetto | Callison |
Il Grand Gateway Shanghai (in cinese 港 汇 广场; pinyin Gǎnghuì Guǎngchǎng) è un complesso costituito da due grattacieli gemelli situato nella zona di Xujiahui a Shanghai, in Cina. Progettato dallo studio Callison,[1] gli edifici sono stati completati nel 2005.
Note[modifica | modifica wikitesto]
Altri progetti[modifica | modifica wikitesto]
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Collegamenti esterni[modifica | modifica wikitesto]
- Sito ufficiale, su grandgateway66.com.
- (EN) Grand Gateway Shanghai, su Emporis Building Directory.
