Litografia colloidale

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La litografia colloidale (inglese: Colloidal lithography) è una tecnica di fabbricazione di materiali nanostrutturati che utilizza assemblati colloidali (1-D, 2-D e 3-D), come maschere per un processo litografico (deposizione o rimozione di materiale). Le dimensioni tipiche delle strutture replicabili attraverso maschere colloidali variano tra 1 e 1000 nm. Per questo la litografia colloidale viene considerata una tecnica di nanofabbricazione. Il suo utilizzo è per ora limitato all'ambito della ricerca e sviluppo, ma può essere applicata anche a processi industriali su larga scala.

Bibliografia[modifica | modifica wikitesto]

  • Dong Kee Yi, Min Jun Kim, Linda Turner, Kenneth S. Breuer e Dong-Yu Kim, "Colloid Lithography-Induced Polydimethylsiloxane Microstructures and their Application to Cell Patterning", Biotechnology Letters, Springer Netherlands, volume 28, n. 3, febbraio 2006. ISSN 0141-5492 e ISSN 1573-6776 (Online)
  • Seung-Man Yang, Se Gyu Jang, Dae-Geun Choi, Sarah Kim, Hyung Kyun Yu, "Nanomachining by Colloidal Lithography", Wiley InterScience, volume 2 Issue 4, Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim, 2009. [1] [2]

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