350 nm

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Il 350 nm (350 nanometri o 0,35 µm) evoluzione del precedente processo a 600 nm è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI).

Questo processo fu introdotto negli anni 1995-1996 dalle principali industrie di semiconduttori come Intel e IBM.

Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 250 nanometri.


Prodotti realizzati con il processo 350 nm[modifica | modifica sorgente]