File:Locos (microtechnology) process.svg
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Data/Ora | Miniatura | Dimensioni | Utente | Commento | |
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attuale | 21:02, 14 dic 2009 | 512 × 796 (27 KB) | Cepheiden | some fixes | |
18:53, 19 gen 2008 | 625 × 1 000 (56 KB) | Twisp | {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni |
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